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主營(yíng)產(chǎn)品:X射線熒光光譜儀
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高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡

型 號(hào)Hitachi SU8010

產(chǎn)品時(shí)間2024-06-24

所屬分類掃描電子顯微鏡(電鏡)

訪問量4789

產(chǎn)品描述:HITACHI SU-8010高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡包括SU-8010主機(jī)和E-1045噴鉑噴碳裝置,并配備有EDAX X射線能譜儀。加速電壓為15kV時(shí),分辨率為1.0nm,加速電壓為1kV時(shí),分辨率為1.3nm。
產(chǎn)品概述

HITACHI SU-8010高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡包括SU-8010主機(jī)和E-1045噴鉑噴碳裝置,并配備有EDAX X射線能譜儀。加速電壓為15kV時(shí),分辨率為1.0nm,加速電壓為1kV時(shí),分辨率為1.3nm。

 

日立2005年在中國(guó)推出了S-4800型高分辨場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,由于出色的應(yīng)用性能、良好的穩(wěn)定性和簡(jiǎn)易的維護(hù),收到了各界用戶的*。

 

日立2011年新推出了它的后續(xù)機(jī)型----SU8010,它繼承了S-4800的優(yōu)點(diǎn),性能有進(jìn)一步提高,1kv使用減速功能后,分辨率提升到1.3nm,相對(duì)于S-4800可以在更低的加速電壓下呈高分辨像,明顯提升了以往很難觀測(cè)的低原子序數(shù)樣品的觀測(cè)效果。

 

產(chǎn)品特點(diǎn):

1. 低加速電壓成像能力,1kv分辨率可達(dá)1.3nm

2. 日立專li的ExB設(shè)計(jì),不需噴鍍,可以直接觀測(cè)不導(dǎo)電樣品

3. Upper探頭可選擇接受二次電子像或背散射電子像

4. 可以根據(jù)樣品類型和觀測(cè)要求選擇打開或關(guān)閉減速功能

5. 標(biāo)配有冷指、電子槍內(nèi)置加熱器,物鏡光闌具有自清潔功能

6. 儀器的烘烤維護(hù)及烘烤后的透鏡機(jī)械對(duì)中均可由用戶自行完成

 

主要用途:

掃描電鏡(SEM)可觀察納米材料、材料斷口的分析、觀察原始表面、觀察區(qū)域細(xì)節(jié)、顯微結(jié)構(gòu)分析等。

 

X射線能譜儀可進(jìn)行成分的常規(guī)微區(qū)分析:元素定量、定性成分分析,實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析,快速的多元素面掃描和線掃描分布測(cè)量。分析范圍Be4~U92。

 

已廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、金屬材料、陶瓷材料半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料、醫(yī)藥科學(xué)以及生物等領(lǐng)域。

 

 

二次電子分辨率

1.0nm(加速電壓15kV、WD=4mm)
1.3nm(加速電壓1kV、WD=1.5mm)
加速電壓0.1~30kV
觀測(cè)倍率20~8000,000(底片輸出)
60~2,000,000(顯示器輸出)
樣品臺(tái)
馬達(dá)驅(qū)動(dòng)3軸馬達(dá)
5軸(選配)
行程X0~50mm
Y0~50mm
Z360°
T-5~70°
R1.5~30mm
zui大裝載尺寸100mm(zui大)
150mm(選配)
探頭
標(biāo)配Lower高立體感圖像
Upper高分辨SE、BSE圖像
 
選配
STEM明場(chǎng)像、暗場(chǎng)像
YAG 探頭BSE圖像
半導(dǎo)體探頭BSE圖像
EBIC 電子束感生電流圖像
EDS元素分析
反污染措施
冷指標(biāo)配
物鏡光闌內(nèi)置自清潔功能
電子槍內(nèi)置加熱器
真空系統(tǒng)
離子泵3臺(tái)
分子泵1臺(tái)
機(jī)械泵1臺(tái)

 

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